PVD-Beschichtungsanlage GALACTIC GAVA 500 CAPVD wurde im Jahr 2022 in
Polen gebaut. Diese technisch äußerst fortschrittliche Anlage ist
für die Beschichtung von u. a. Schneidwerkzeugen, Formen und Stempeln
mit äußerst widerstandsfähigen Schichten mit hoher Abriebfestigkeit
und chemischer Beständigkeit ausgelegt. Das verwendete
CAPVD-Verfahren (Cathodic Arc Physical Vapour Deposition) ermöglicht
im Vergleich zu herkömmlichen PVD-Verfahren die Herstellung
hochdichter und haftender Schichten mit guten Abscheidungsraten und
-dicken (± 5 nm).
Bei diesem Verfahren werden Atome aus einer Quelle (Kathode), die sich
in der Arbeitskammer befindet, mit Hilfe eines Lichtbogens verdampft.
Diese Atome werden dann auf die Oberfläche der Werkstücke
übertragen und abgeschieden, wodurch eine dünne Schicht entsteht.
Die PVD-Beschichtungsanlage GAVA 500 ist mit allen notwendigen
Komponenten der besten technischen Spezifikationen ausgestattet und
erfüllt die höchsten Industriestandards.
Technische Daten der PVD-Beschichtungsanlage GALACTIC GAVA 500
CAPVD
- PLC-Steuerung: MITSUBISHI A1S1
- Beschichtungsarten: TiN, TiCN, TiAlN, TiAlNEX, CrN, ZrN, CrAlN,
TiSiAlN, AlCrN, ZrO, CrCO
- Abmessungen der Vakuumkammer (Durchm. x H): ⌀600 x 600 mm
- maximales Werkstückgewicht: 500 kg
- maximales Vakuum: 5x 6-10 mbar
- CAPVD-Verdampfer (2 Stk.)
- Roots Pumpe: LEYBOLD 501 S (2 Stk.)
- Leistung der Roots-Pumpe: 4040 m3/h
- Druck der Roots-Pumpe: 3-10 mbar
- Turbomolekularpumpe: LEYBOLD MAGiNTEGRA
- Leistung der Turbomolekularpumpe: 2000 l/s
- Druck der Turbomolekularpumpe: 6-10 mbar
- Kompressor
- Kühlvorrichtung (Chiller)
- Satellitenklemmen (18 Stk.)
- Prozessgasverteilung: Massendurchflussmessgeräte mit Sensoren
- Temperaturkontrolle: Thermoelement Typ K
- Stromversorgung der Maschine GALACTIC GAVA 500 CAPVD: 3x 400 V; 50
Hz
Polen
